產品詳情

KQ-300MSE 兆聲波清洗器 - 高頻精密超聲清洗技術革新典范，適用于半導體與微納制造行業

KQ-300MSE兆聲波清洗器是我公司為滿足高精密領域潔凈需求而全新推出的一款高頻超聲清洗設備，采用兆赫茲級別的清洗頻率（0.5MHz、1.0MHz、1.7MHz），在實現無損清洗的同時提升了超微顆粒去除效率。設備配置高端，集成7寸TFT觸控屏、間歇脫氣功能、溫度電壓電流異常顯示以及9組用戶程序儲存功能，適用于半導體制造、光電器件、IC封裝、精密光學元件等高端行業的苛刻清洗工藝。

一、KQ-300MSE兆聲波清洗器主要技術參數

• 型號：KQ-300MSE

• 外形尺寸：340×340×325mm

• 內槽尺寸：250×250×150mm

• 清洗槽容量：10L

• 超聲頻率：0.5/1.0/1.7MHz（可選）

• 超聲功率：300W

• 加熱功率：500W

• 溫度設定范圍：室溫~80℃

• 工作時間可調：1min~99h59min

• 進排水方式：手動控制

• 標配附件：不銹鋼托架

• 電源要求：AC220V / 50Hz

二、KQ-300MSE清洗器的核心功能與優勢

該清洗器不同于傳統超聲設備，其采用兆聲波頻率，波長極短，能在清洗液體中形成更加致密的聲場區域，從而實現對微米級、亞微米級污染物的徹底清除。特別適用于那些對表面無任何機械損傷要求極高的元件，如半導體晶圓、MEMS器件、光學鍍膜件等。

1. 高頻兆赫超聲技術

清洗頻率高達0.5MHz、1.0MHz、1.7MHz，可深入微小縫隙及結構，對極微顆粒污染物產生良好的驅散作用。尤其在空化效應較低的頻段下，清洗效果更為溫和且精確，避免傳統超聲波可能造成的物理損傷。

2. 智能化觸控操作系統

采用7寸TFT彩色觸摸屏，UI界面友好，支持9組用戶參數儲存功能，便于常用工藝流程的一鍵調用，提高工作效率并減少誤操作。

3. 多重安全保護

系統集成超溫報警、超電流提示、超電壓保護等功能，保障用戶及設備的運行安全；清洗過程實時監控并提供可視化提示，用戶可隨時掌握運行狀態。

4. 節能降耗電路設計

升級優化的電路結構配合高品質器件，顯著提升了電能轉換效率，有效降低無功損耗，為長期運行節省成本。

三、KQ-300MSE兆聲波清洗器的應用范圍與前景分析

該產品廣泛應用于：

• 半導體制造：包括晶圓片清洗、光刻前處理、去膠、顯影等環節

• 微電子封裝：IC芯片、電容電阻等精細器件的殘膠清除與污染控制

• 光電光學器件：光學透鏡、紅外窗口片鍍膜前清洗及精密去污

• 精密儀器部件：醫療器械、實驗室精密配件、陶瓷零件等的精密無損清洗

兆聲波清洗技術正逐漸成為超凈制造中不可或缺的一環，在高端制造業技術升級過程中展現出巨大的應用潛力。KQ-300MSE在設計時充分考慮了現代實驗室及工業用戶對于潔凈度、可控性、重復性的多重要求，是一款兼具高頻精密、智能控制與安全防護于一體的卓越清洗設備。

四、定制選項與擴展功能

• 可選配不同容量的清洗槽體，以適應不同體積工件的清洗需求

• 頻率可定制為單頻0.5MHz、1.0MHz、1.7MHz，也可按需求拓展多頻切換功能

• 支持RS485/Modbus通信協議，適用于自動化產線數據對接

• 可擴展自動加液、排液、濾液系統

• 外殼顏色與工業環境適配可提供個性化定制

五、總結：為何選擇KQ-300MSE兆聲波清洗器？

如果您的生產或實驗需要對微小顆粒、敏感表面、復雜結構元件進行無損且超潔凈的處理，那么KQ-300MSE兆聲波清洗器將是不二之選。它不僅代表了清洗精度的飛躍，更以智能化操作、高頻控制、安全保障和卓越性能，為您打造高端、穩定、經濟的超凈解決方案。選擇KQ-300MSE，就是選擇了科技、效率與品質的三重保障。